Variations de la composition d'un bain de chrome trivalent en fonction des paramètres d'électrodépositionShigeo Hoshino, Shunichi Taniguchi, Ryokichi Shimpo and Gar B. HoflundMatériaux & Techniques, 89 11-12 (2001) 41-46DOI: https://doi.org/10.1051/mattech/200189110041
